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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 化工,生物產業,能源,電子/電池 |
|---|---|---|---|
| 工作尺寸 | 150毫米×150毫米，厚度約0.1?-?1.0毫米 |
日本EHC 平行光曝光系統HTE-510-EHC
平行光曝光系統
設計緊湊的平行光曝光系統。
這種準直鏡式平行光曝光系統使用一個超高壓汞燈作為點光源。 主要部件由光源、吸式曝光臺和面罩單元組成，曝光方式可以是真空接觸（硬接觸）曝光方式。 也可根據要求提供接近系統。
對于曝光控制，安裝了一個集成的測光表，以方便設置正確的曝光量。
基本信息
日本EHC 平行光曝光系統HTE-510-EHC
基本規格。
工件尺寸：150毫米×150毫米，厚度約0.1 - 1.0毫米
光學性能：超高壓汞燈1KW（風冷），波長約300-470納米（主波長365、405、436納米）。
紫外線照度約為40 mw/cm^2的初始值（@365 nm），照度分布為90% min。
射線平行度：準直半角≤1.5°，傾角≤1.0°。
曝光快門：用空氣驅動的快門打開/關閉
曝光控制：取決于集成測光表（控制波長為365納米），20通道記憶
面罩（基本）： □8英寸玻璃面罩，3.0毫米或5.0毫米厚
曝光臺：吸氣臺，前/后可移動，內置真空泵
上層框架類型：專用玻璃罩框架或麥拉框架
公用設施：電源3相200V 50/60 Hz，斷路器開關30A，10.5KVA
壓力空氣約0.5 Mpa
廢氣：約8 m^3/min
外部尺寸：(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm
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